每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問：SA­QP自對(duì)準(zhǔn)四重曝光對(duì)于曝光設(shè)備的套刻精度要求較低，但對(duì)于側(cè)墻刻蝕、原子層沉積、硬掩模沉積、掩膜圖像轉(zhuǎn)移等工藝的精度要求較高。公司的產(chǎn)品是否可以用于saqp技術(shù)的相關(guān)環(huán)節(jié)？

國(guó)林科技（300786.SZ）4月9日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，公司暫未涉及相關(guān)業(yè)務(wù)。

(記者 畢陸名)

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